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题目内容 (请给出正确答案)
[单选题]

以下哪个项目属于抛光段不良()

A.刀纹

B.抛光痕

C.黑点

D.过抛

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D、过抛

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第1题
以下属于抛光磨具的是()。

A.锯片

B.砂轮

C.磨盘

D.抛光盘

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第2题
为了还原时更高效地处理炫纹,可在抛光时将初期和中期研磨剂混在一起抛()
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第3题
抛釉砖、抛光砖、微晶石耐磨程度以下正确的是()

A.抛釉>抛光>微晶

B.微晶>抛釉>抛光

C.抛光>抛釉>微晶

D.抛光>微晶>抛光

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第4题
以下哪一种缺陷不属于面漆的片状缺陷__()

A.色差

B.抛光痕

C.遮蔽痕

D.漆雾

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第5题
研磨抛光工序上正确的做法是哪个()

A.确认喷漆表面纹路-研磨处理杂质等不良状态-组合蜡抛光-清洁交单

B.确认喷漆表面纹路-组合蜡抛光-研磨处理杂质等不良状态-组合蜡抛光-清洁交单

C.组合蜡抛光-研磨处理杂质等不良状态-组合蜡抛光-清洁交单

D.研磨处理杂质等不良状态-组合蜡抛光-确认纹路-清洁交单

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第6题
属于白料注塑出现的外观不良()

A.白亮点

B.黑点

C.气泡

D.流痕

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第7题
有机玻璃抛光,使用的产品是专用有机玻璃抛光剂,需要的抛光方式是()

A.手工抛光

B.机械抛光

C.干抛

D.水抛

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第8题
说明书上标注可以反复使用的抛光材料有哪些()

A.抛光碟

B.抛光刷

C.抛光杯

D.抛光条

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第9题
CMP工艺的三大关键因素是()。

A.抛光机

B.抛光液

C.抛光盘

D.抛光垫

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第10题
抛光时请解释“逢楞遇缝换切面的意思”()

A.抛光时边楞可以抛

B.抛光时边楞不可以抛

C.抛光时需要跟随漆面弧度调整抛光盘的角度来抛边楞

D.抛光盘可以随意抛边楞

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