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IC制造中对光刻技术的基本要求有哪些?

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第1题
常规硅集成电路平面制造工艺中光刻工序包括的步骤有()、()、()、()、()、()、去胶等。
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X射线制版和直接电子束直写技术替代光刻技术有什么优缺点?
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第5题
在GCS中,对用户需求分析的基本要求有哪些?
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第6题
下面()不属于制造过程中质量控制的基本要求。

A.工艺规范编制

B.技术文件控制

C.原材料质量控制

D.设备的质量控制

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第7题
在体外膜肺氧合(ECMO)技术临床应用管理规范中对医疗机构基本要求:医疗机构应具备卫生健康行政部门核准登记的与开展ECMO技术相适应的诊疗科目,设有重症医学科或重症监护病房,有()名以上经过ECMO技术培训并考核合格的专业技术人员,其中至少()名执业医师

A.5,2

B.3,2

C.2,3

D.3,5

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第8题
属于快周期市场的行业有哪些?()

A.时尚消费

B.药品的品研发

C.汽车制造

D.互联网技术​

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第9题
在体外膜肺氧合(ECMO)技术临床应用管理规范中,对医疗机构基本要求,医疗机构应具有开展()的设备设施和能力

A.心功能衰竭D期心脏功能检测、连续心排量监测

B.磁共振血管造影(MRA)、CT血管造影(CTA)

C.X光、心电图检查设备

D.移动式多普勒超声心动诊断

E.连续性肾脏替代治疗(CRRT)

F.有创呼吸机治疗

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第10题
三维喷涂粘结快速成型工艺对粉末材料的基本要求有哪些?

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第11题
对继电保护装置有哪些基本要求?
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